硅化钕
作用与用途
产物为≤10mm的结块。
合成方法
1 Nd、Si、Hg混合物在石英管中用电炉在约450℃温度下加热10～12h，过量的汞使用弯管蒸馏除去。当汞在管的冷端收集完毕后，在管的热端450～600℃下对产物进行退火处理。
2按照反应计量关系称取Nd2O3和Si(持续抽气)，在真空条件下于氧化铝舟中进行反应，迅速且完全地除去反应中形成的SiO。反应温度控制在1100～1600℃，超过1600℃时通常由于容器参与反应而混有杂质。
计算化学数据
1、 疏水参数计算参考值（XlogP）：2.4
2、 氢键供体数量：1
3、 氢键受体数量：2
4、 可旋转化学键数量：2
5、 拓扑分子极性表面积（TPSA）：21.3
6、 重原子数量：14
7、 表面电荷：0
8、 复杂度：164
9、 同位素原子数量：0
10、 确定原子立构中心数量： 0
11、 不确定原子立构中心数量：1
12、 确定化学键立构中心数量：0
13、 不确定化学键立构中心数量：0
14、 共价键单元数量：1
