乙硼烷

18ZKDiborane高纯二硼烷Boron trifluoride；Electronic industryB2H627.67

目录: 1、物理性质; 2、作用与用途; 3、性质与稳定性; 4、合成方法; 5、贮存方法; 6、毒理学数据; 7、安全信息

物理性质

性状：无色气体。
密度（g/mL,25℃）：0.477
熔点（oC）：-165.5
沸点（oC,常压）：-92.5
闪点（oC）：-90
临界温度（oC）：16.7
临界压力（KPa）：39.5
溶解性：与水反应

作用与用途

1.按规定使用不会分解，避氧化剂、锂、钙、钡、锶、钠、钾、氟、溴三氟化物、碘、氙六氟化物、卤素、热、火焰、明火、光、空气
2.在常温常压下为令人厌恶、窒息的无色有毒气体。熔点-165℃;沸点-925℃；d-1120447;d-296 033;d1500210；临界温度167℃；临界压力395atm。不稳定，在室温干燥状态下一般不燃烧，与潮湿空气接触，即使在低温也能发生爆炸性燃烧，产生绿色火焰。在室温下也能分解，分解产物随温度高低而变化，到500℃时完全分解成氢和硼。能与氨、甲醇、乙醛、乙醚及锂、钠、钾、钙、铝等金属激烈反应。
3.遇水分解变成氢及硼酸。蒸气压(3.00×104±133)Pa(-111.6℃)。红外光谱带3670(w)、2625(s)、2558(s)、2353(w)、1853(m)、1602(vs)、1197(s)、1178(s)、1154(s)、973(m·sh)cm1。可以储存，但长期存放时就转变为氢及高级硼烷。

性质与稳定性

1.用作高纯度硼单晶及十硼氢的原料，也用作半导体工业的掺杂源
2.乙硼烷是半导体制造中用作硅材料的p型掺杂源，在半导体工业中得到广泛应用，用于半导体生产，硅和锗的外延生长、钝化、扩散和离子注入。随着大规模集成电路集成度的提高，对B2H6纯度的要求也越来越高。还可用作火箭和导弹的高能燃料。
3.可用作火箭和导弹的高能燃料，也可用于半导体生产，硅和锗的外延生长、钝化、扩散和离子注入。用于制药、金属焊接和有机合成等领域。

合成方法

1.该产品可由硼氢化钠与H2SO4反应生成，再经纯化、液化制得。

贮存方法

1.密闭、阴凉、干燥处库房通风低温干燥; 轻装轻卸
2.气体钢瓶要存放在通风良好的室外或强制通风的室内，远离火源，并且使其温度始终保持在20℃以下。不可与卤素、氧化剂、氧及水接近。乙硼烷一旦燃烧，一般很难扑灭，最有效的处理方法是及时阻止硼烷泄露，并防止火灾向周围蔓延。

毒理学数据

吸入- 大鼠 LC50: 40 PPM/ 4 小时; 吸入- 小鼠 LC50: 29 PPM/ 4 小时
大鼠吸入（4h）LC50：50×10-6。最高容许浓度01mg/m3。乙硼烷对黏膜有较强的刺激作用，吸入后会很快侵袭至肺部并引起肺水肿和出血。长时间接触乙硼烷会损伤肝和肾。接触皮肤能引起严重的局部炎症并能导致皮炎。乙硼烷还能使嗅觉器官失灵。其毒性比光气和HCN还大。若不慎触及眼睛或皮肤，应立即用水冲洗。